产品介绍：

纳米级别的湿法超细研磨设备，小型号设备特别适用于研发处理要求，且容易放大量产。设备采用双轴立式设计，分离器主轴转速与搅拌主轴转速分别设置，因此可以在保证研磨流量的同时可采用小直径的研磨介质对物料进行研磨。这也就意味着研磨珠跟物料的接触点面积会变得更小，理论上能够达成的目标粒径值也就会细，甚至可到数纳米。

可使用珠径0.03mm的珠粒，用于生产纳米粒子、新材料研发及量产的立式珠磨机。通过独立控制珠分 离器和粉碎部件的速度，可以传输分散纳米粒子所需的最小能量。

此外，韩国产品综合性价比较高，产品品质也较为稳定，且有在先进陶瓷，MLCC，二次电池，电子墨水，薄膜材料等领域方面的实际应用经验。

主要应用场景：

涂料、颜料、制药、化妆品、先进陶瓷、电池浆料、环保新材料、玻璃粉、铁氧体、电子墨水、特殊涂层材料等，MLCC浆料，薄膜材料

产品特点：

- 具备综合性价比

- 研磨腔体内部有多种材质可供选择

- 维护保养简单快捷

- 可视化图形操作界面

- 研磨细度可达纳米级

- 独立控制珠分离器和粉碎部件的速度;

- 双端面机械密封:上、中、下三部分均采用特殊机械密封;

- 粉碎部分:销型结构，易于更换

-  珠径:Ø0.03~0.3mm